Thiết bị quang khắc tích hợp in vi mạch kích thước micro/nano 806MBA/OAI

Thiết bị quang khắc tích hợp in vi mạch kích thước micro/nano 806MBA/OAI

Thiết bị quang khắc tích hợp in vi mạch kích thước micro/nano 806MBA/OAI

  • 806MBA
  • OAI
  • Mỹ
  • - Thay đổi nhanh mặt nạ và mâm cặp. - Điều khiển bằng máy tính lập trình logic (PLC) và màn hình cảm ứng. - Thiết bị có xuất xứ từ Mỹ. - Hệ thiết bị phải đồng bộ bao gồm thiết bị quang trắc (mask aligner) và thiết bị in vi mạch kích thước micro và nano được tích hợp trên cùng 1 hệ thống và được cung cấp bởi cùng một hãng sản xuất. - Hệ thiết bị phải được lắp đặt, đào tạo và hướng dẫn sử dụng tại chỗ bởi chuyên gia của hãng sản xuất máy chính trong thời gian tối thiểu 3 ngày.
  • Danh mục:
  • 3351
  • Giới thiệu
  • Thông số kỹ thuật
  • Ứng dụng và tiêu chuẩn
  • video
  • Tài liệu

- Thay đổi nhanh mặt nạ và mâm cặp.
- Điều khiển bằng máy tính lập trình logic (PLC) và màn hình cảm ứng.
- Thiết bị có xuất xứ từ Mỹ.
- Hệ thiết bị phải đồng bộ bao gồm thiết bị quang trắc (mask aligner) và thiết bị in vi mạch kích thước micro và nano được tích hợp trên cùng 1 hệ thống và được cung cấp bởi cùng một hãng sản xuất.
- Hệ thiết bị phải được lắp đặt, đào tạo và hướng dẫn sử dụng tại chỗ bởi chuyên gia của hãng sản xuất máy chính trong thời gian tối thiểu 3 ngày.

Thiết bị quang khắc tích hợp in vi mạch kích thước micro/nano
Model: 806MBA
Hãng sản xuất: OAI - Mỹ
Xuất xứ: Mỹ
Thông tin chung:
- Thay đổi nhanh mặt nạ và mâm cặp.
- Điều khiển bằng máy tính lập trình logic (PLC) và màn hình cảm ứng.
- Thiết bị có xuất xứ từ Mỹ.
- Hệ thiết bị phải đồng bộ bao gồm thiết bị quang trắc (mask aligner) và thiết bị in vi mạch kích thước micro và nano được tích hợp trên cùng 1 hệ thống và được cung cấp bởi cùng một hãng sản xuất.
- Hệ thiết bị phải được lắp đặt, đào tạo và hướng dẫn sử dụng tại chỗ bởi chuyên gia của hãng sản xuất máy chính trong thời gian tối thiểu 3 ngày.
Thông số kỹ thuật:
- Không cần xoay mặt nạ
- Chỉnh méo: Méo theta do ghép mặt nạ (nếu có) sẽ được chỉnh bằng cách dịch chuyển một trong các camera quang học cho mặt trước hoặc mặt sau
- Ghép mặt nạ: Mặt nạ được ghép vào vị trí cố định. Mặt nạ không xê dịch trong suốt quá trình vận hành thông thường. Việc ghép mặt nạ không đòi hỏi công cụ đặc biệt và chỉ mất vài phút. Mặt nạ được cố định ở vị trí mong muốn bởi kẹp cơ khí và chân không
- Các chế độ phơi sáng: cứng, mềm, tiếp xúc chân không và tiệm cận
+ Tiếp xúc chân không: 3,4 N/cm2
+ Tiếp xúc mềm: 0,03 N/cm2 , phiến 6” (lực giữ của bộ ly hợp từ 0 đến 30N theo trục Z)
+ Tiếp xúc cứng: 0,03 N/cm2 đến 10N/cm2 (15psi N2)
+ Tiếp cận: khe phơi sáng dao động từ 0-150 μm
- Thời gian phơi sáng: 1,0 – 99,9 giây, bước tăng 0,1 giây
- Kích thước đế: đường kính 2” – 6” (150mm)
- Chiều dày của đế: 0,1 tới 6 mm
- Kích thước mặt nạ có thể hỗ trợ: 3”x3”; 5”x5”; 7”x7”; 9”x 9”
- Chiều dày mặt nạ: được xác định bởi người sử dụng
1.1 Hệ thống nguồn sáng cho đèn thủy ngân UV 500W: 01 bộ
- Hệ thống nguồn sáng giảm tán xạ bao gồm: vỏ đèn, cảm biến, gương chính xác, hệ quang học và thấy kính chuẩn trực giúp tối thiểu tán xạ và phản xạ.
- Hệ thống cấp nguồn UV điều khiển cường độ với các cảm biến quá ngưỡng (với đèn cảnh báo) và bảng mạch cảm biến cường độ kép.
- Cảm biến dòng khí trên vỏ đèn sẽ tắt bộ cấp nguồn UV trong trường hợp hệ thống làm mát bằng khí bị lỗi
- Hệ thống làm việc ở chế độ cường độ đèn không đổi hoặc điện áp cấp cho đèn không đổi
- Kích thước chum tia: đường kính 6 inch
- Độ đồng đều chum tia: tốt hơn ± 5% với phiến 6”
- Độ tán xạ chùm tia: 2,3º (bán độ rộng góc)
- Cường độ chùm tia (500W): ~ 22mW/cm2 (phổ UV 365nm)
1.2. Bộ điều khiển nguồn UV cho đèn thủy ngân 500W: 01 Bộ
- Loại đèn 500W: mặc định 475W (khoảng 450 – 550W)
- Độ ổn định nguồn: tốt hơn ± 0,5%
- Điều khiển cường độ: độ lặp lại dài hạn ± 2%
- Chế độ:
+ Điện áp (nguồn) không đổi: cung cấp điện áp nguồn không đổi tới đèn
+ Cường độ không đổi: cảm nhận đèn UV lối ra và điều chỉnh điện áp lối ra để đèn duy trì cường độ
1.3. Đèn UV: Đèn thủy ngân công suất 500W: 02 chiếc
1.4. Bàn soi đồng chỉnh bằng tay với vi kế chính xác: 01 chiếc

- Điều khiển dịch chuyển: X, Y, Z và Theta, với vi kế vi sai
- Dịch chuyển X/Y: ± 10 mm
- Dịch chuyển Z: ± 10 mm, điều khiển bằng PLC với bước 1μm
- Dịch chuyển Theta: ± 4º
- Có hệ thống bù góc để tối ưu độ lặp lại khe in
- Khe chiếu sáng: từ 0 đến 150 μm
- Độ phân giải điều chỉnh khe: 5 μm
- Độ chính xác đồng chỉnh:
+ Mặt trên: 0,5 μm (3σ)
+ Mặt dưới : 2 μm (3σ)
- Điều chỉnh phân cách mặt nạ/ mâm cặp:
+ Thao tác bằng tay, có thể đặt trong khoảng 1 μm đến 4.000 μm với bước 1 μm
+ Áp suất mặt nạ/ mâm cặp: người dùng có thể đặt với tiếp xúc cứng tăng cường 0 - 75 psi khí N2, van khí điều chỉnh bằng tay
1.5. Kính hiển vi gắn phía trên: 01 chiếc
- Loại kính hiển vi: Dual CCTV video với hệ thống Zoom quang học liên tục
- Màn hình hiển thị LCD 15”: 01 chiếc
- Dịch chuyển: Khóa khí nén X-Y
- Khoảng cách từ vật kính tới cạnh mặt nạ: 42 mm
- Dải quét: Toàn bề mặt phiến và mặt nạ
- Độ phóng đại: Zoom liên tục từ 30X đến 210X
- Vật kính: 5X
- Hệ thống lưu trữ ảnh: Enhanced Target Pattern Generator Image
- Đội rọi: TTL với cường độ thay đổi
1.6. Kính hiển vi gắn phía dưới: 01 chiếc
- Loại kính hiển vi: Dual CCTV video với hệ thống Zoom điện tử 2X
- Màn hình hiển thị LCD 15”: 01 chiếc
- Dịch chuyển: X, Y, Z với bộ vi kế vi sai
- Dải quét: X: ± 50 mm, Y: ± 25 mm
- Khoảng cách từ vật kính tới cạnh mặt nạ : 20 mm
- Hệ thống lưu trữ ảnh : Enhanced Target Pattern Generator Image
- Độ phóng đại: 230X
- Độ rọi: TTL với cường độ thay đổi
1.7. Giá đỡ cho mặt nạ kích thước 7”x7” với khung nạp: 01 chiếc
- Tuân thủ tiêu chuẩn thiết kế của nhà sản xuất
- Giá đỡ mặt nạ được giữ bằng 4 ốc vít
- Không cần công cụ đặc biệt để thay giá đỡ mặt nạ kích thước khác
- Mặt nạ được giữ bằng chân không và 1 kẹp lò xo giữ ở góc mặt nạ
- Khung nạp mặt nạ dùng cho mặt nạ có kích thước 7”x7”
1.8. Mâm cặp giữ để có đường kính 6” bằng chân không: 01 chiếc
- Tuân thủ tiêu chuẩn thiết kế của nhà sản xuất
- Mâm giữ đế bằng chân không được gắn bằng các ốc vít
- Không cần công cụ đặc biệt để thay mâm chân không kích thước khác
- Mâm chân không giúp mặt nạ tiếp xúc phẳng trên wafer
- Mâm cặp bao gồm một tấm phẳng có một viên bi bán phần (half-ball) bằng thép không gỉ được gắn ở mặt dưới
- Mâm chân không cung cấp một bề mặt siêu phẳng để giữ phiến
- Hỗ trợ giữ mẫu bằng chân không có phiến có độ dày lên tới 6 mm
- Bơm chân không sơ cấp kèm theo: 01 chiếc
1.9. Giá đỡ cho mặt nạ kích thước 5”x5” với khung nạp: 01 chiếc
- Tuân thủ tiêu chuẩn thiết kế của nhà sản xuất
- Giá đỡ mặt nạ được giữ bằng 4 ốc vít
- Không cần công cụ đặt biệt để thay giá đỡ mặt nạ
- Mặt nạ được giữ bằng chân không và 1 kẹp lò xo giữ ở góc mặt nạ
- Khung nạp mặt nạ dùng cho mặt nạ có kích thước 5”x5”
1.10. Mâm cặp giữ đế có đường kính 4” bằng chân không: 01 chiếc
- Tuân thủ tiêu chuẩn thiết kế của nhà sản xuất
- Mâm giữ đế bằng chân không được gắn bằng các ốc vít
- Không cần công cụ đặc biệt để thay mâm chân không kích thước khác
- Mâm chân không giúp mặt nạ tiếp xúc phẳng trên wafer
- Mâm cặp bao gồm một tấm phẳng có một viên bi bán phần (half-ball) bằng thép không gỉ được gắn ở mặt dưới.
- Mâm chân không cung cấp một bề siêu phẳng để giữ phiến
- Hỗ trợ giữ mấu bằng chân không cho phiến có độ dày lên tới 6 mm
1.11. Giá đỡ mặt nạ kích thước 3”x3” với khung nạp mặt nạ: 01 chiếc
- Tuân thủ thiết kế của nhà sản xuất
- Giá đỡ mặt nạ được giữ bằng 4 ốc vít
- Không cần công cụ đặc biệt để thay giá đỡ mặt nạ kích thước khác
- Mặt nạ được giữ bằng chân không và 1 kẹp lò xo giữ ở góc mặt nạ
- Khung nạp mặt nạ dùng cho mặt nạ có kích thước 3”x3”
1.12. Mâm cặp giữ phiến 2” bằng chân không: 01 chiếc
- Tuân thủ tiêu chuẩn thiết kế của nhà sản xuất
- Mâm giữ đế bằng chân không được gắn bằng các ốc vít
- Không cần công cụ đặc biệt để thay mâm chân không kích thước khác
- Mâm chân không giúp mặt nạ tiếp xúc phẳng trên wafer
- Mâm cặp bao gồm một tấm phẳng có một viên bi bán phần (half-ball) bằng thép không gỉ được gắn ở mặt dưới.
- Mâm chân không cung cấp một bề siêu phẳng để giữ phiến
- Hỗ trợ giữ mấu bằng chân không cho phiến có độ dày lên tới 6 mm
1.13. Mô-đun in vi mạch kích thước micro và nano: 01 chiếc
- Bộ dụng cụ cho UV-NIL: Bộ giữ đế cho khuôn và phiến
- Mô-đun in vi mạch kích thước micro và nano cung cấp chương trình điều khiển tách khuôn tự động 1 bước, với độ phân giải có khả năng xuống tới 0,02 μm (20 nm)
- Khi kết nối với hệ thống quang khắc (mask aligner), mô-đun in kích thước nano cung cấp khả năng in nano bán tự động
- Phiến và khuôn được giữ bằng chân không. Yêu cầu chân không 0,093MPa hoặc tốt hơn, độc lập với nguồn chân không của hệ quang khắc (mask aligner)
- Kích thước phiến: lên đến 4”
- Diện tích có thể in của phiến: đường kính 2”
- Áp lực in: 0 đến 25 psi
- Kích thước khuôn: đường kính 5”, dày 0,09”
- Độ phân giải (350-450 nm, phiến 4”): 0,1 μm (có khả năng xuống tới 0,02 μm)
+ Tiếp xúc chân không: 1μm
+ Tiếp xúc mềm: 2μm
+ Tiếp xúc cứng: 0,8 đến 1,5 μm
+ Tiệm cận: 4 μm
- Thao tác bán tự động
- Hỗ trợ nhiều kích thước khuôn khác nhau
- Kích thước họa tiết nhỏ nhất có thể in: 17 nm
1.14. Hệ thống điều khiển: 01 hệ
- Hệ thống được điều khiển thông qua hệ thống máy tính lập trình logic (PLC) và màn hình cảm ứng
1.15. Phần mềm điều khiern cho hệ NIL: 01 gói
- Cung cấp quy trình điều khiển bán tự động.
- Chương trình hướng dẫn người sử dụng qua một loạt các quy trình đơn giản và liên tục tới khi hoàn tất quá trình in
- Tách khuôn in chỉ với 1 thao tác
- Sử dụng công nghệ tách khuôn của HP để tách khuôn khỏi đế (phiến) khi quá trình in hoàn tất:
+ Tạo áp lực lên mặt sau tại cùng giữa của phiến, trong khi cạnh ngoài của phiến vẫn được giữ bằng chân không
+ Áp lực khu vực trung tâm buộc phiến chống lại các khuôn mẫu cho quá trình in diễn ra
+ Khi quá trình in hoàn tất, áp lực tại tâm phiến mất đi và phiến “bật” ngược khỏi khuôn để tách khuôn
- Cung cấp kèm theo 1 bộ các quy trình chuẩn
- Cho phép giữ khuôn in và phiến với độ chính xác cao
- Thực hiện in nano chuẩn xác
- Người dùng có thể tối ưu các thông số quy trình
1.16. Bộ đo công suất đèn UV, dải bước sóng đo 365-450 nm: 01 bộ
- Bộ đo công suất 1 kênh, bao gồm 1 cảm biến cho bước sóng 365 nm
- Đơn vị hiển thị: mW/cm2, mJ/cm2 và giây
- Dải đọc: 0,01 đến 1.999 mW/cm2
- Hiệu chuẩn theo chuẩn NIST
- Hỗ trợ nhiều loại cảm biến khác nhau để đáp ứng yêu cầu của người sử dụng
- Được thiết kế cho photolithography, ổn định UV và kiểm soát các hệ thống hàn UV cho các chất kết dính (adhesive) và các vật liệu khác
1.17. Hệ bàn chống rung: 01 bộ
(Được cung cấp đồng bộ bởi hãng sản xuất thiết bị chính)
- Kích thước (DxRxC): ~ 122 x 91 x 89 cm
- Tích hợp mặt bàn
- Hệ thống chống rung CDA
- Chân bàn có bánh xe
- Giá đỡ bộ cấp nguồn
1.18. Phụ kiện, vật tư lắp đặt
- Mặt nạ 7” dùng cho phiến Si 6”: 01 chiếc
- Khuôn mẫu cho module in UV-NIL: 01 chiếc
- Phiến Si 6”: phiến Si đơn tinh thể, đánh bóng một mặt: 100 phiến
- Phiến Si 4”: phiến Si đơn tinh thể, đánh bóng một mặt: 100 phiến
- Chất cảm quang Ma-P 1210: cảm quang dương, phù hợp với đèn phơi sáng I-line, độ dày lớn nhất 1,2μm: 01 lọ (0,5 lít/ lọ)
- Chất hiện hình Ma-D 331: dùng để tẩy bỏ lớp cảm quang ở vùng bị ánh áng UV chiếu vào, tạo hình linh kiện trên phiến: 01 lọ (5 lít/ lọ)
1.19. Thiết bị phụ trợ bao gồm:
1.19.1. Tủ hóa ướt (Wetbench) dùng cho quá trình chuẩn bị, hiện hình chất cảm quang: 01 hệ

- Vật liệu: thép không gỉ loại SUS304, phủ PP Ivory 10mmt
- Đèn: đèn đôi, chống hơi axit, loại 220V x 20W: 01 bộ
- Cửa: Vận hành bằng tay, có khả năng trượt lên/xuống
- Thoát khí:
+ Van khí damper vận hành bằng tay, f250mm: 01 chiếc
+ Thể tích thoát khí: 9 CMM
+ Áp suất tĩnh: 15 mm H2O
+ Giữa vùng phía trước và cổng thoát khí được lắp 1 van khí kiểu trượt để xả
- Working top:
+ Có một tấm được đục lỗ có thể dịch chuyển
+ Được thiết kế với 4 bồn rửa
+ Vật liệu bồn rửa: PP tự nhiên 10mmt
+ Kích thước trong của bồn rửa: DxRxC = 200 x 200 x 250 mm
- Phía dưới của tủ
+ Có bộ ống thoát hóa chất dư, có cảm biến báo rò rỉ
+ Có cửa trượt trái/phải cho buồng chứa
+ Tổng chiểu cao cửa khi trượt: 350mm
- Vòi rửa kiểu cổ ngỗng: 04 chiếc
+ Vật liệu: PVC
+ Van kim 1/2": 04 chiếc
+ Van bi 3/4" PP: 04 chiếc
- Bộ điều khiển
+ Bộ định thời gian tích hợp: 0 - 999 giây: 01 bộ
+ Còi báo: 01 chiếc
+ Van điều khiển bật/tắt: 01 chiếc
- Phụ kiện:
+ Bánh xe chân tủ: 04 chiếc
+ Đệm chỉnh độ cao tủ: 5/8"x5"
+ Súng nước D.I: vật liệu PP với ống lõi PE: 01 chiếc
+ Súng khí N2: vật liệu PP với ống lõi PE: 01 chiếc
- Kích thước tủ khoảng: 
Dài x Rộng x Cao = 1000mm x 800mm x 2050 mm"
1.19.2. Lò ủ nhiệt mở (hotplate): 02 chiếc
- Vật liệu tấm gia nhiệt: crôm hoặc nhôm
- Điều khiển nhiệt độ: PID, đảm bảo chính xác ±1ºC
- Nhiệt độ thấp nhât: 40ºC
- Nhiệt độ cao nhất: 300ºC
- Diện tích nung nóng tối thiểu: 250mm x 250mm
- Đảm bảo tính đồng đều của nhiệt độ trên toàn bề mặt nung nóng
- Hiển thi nhiệt độ với đơn vị ºC hoặc ºF
- Người sử dụng có thể đặt ngưỡng nhiệt độ kỹ thuật số và đọc nhiệt độ thực
- Có các tấm chống bức xạ nhiệt giúp bộ điều khiển lò luôn mát trong suốt quá trình hoạt động liên tục
- Trong trường hợp cảm biến bị hỏng, nguồn tới bộ phận gia nhiệt sẽ tự ngắt
1.19.3. Máy hút bụi dùng cho phòng sạch: 01 chiếc
- Có lọc HEPA hiệu suất 99,99% đối với các hạt bụi 0,3μm
- Động cơ: 1,5 sức ngựa (1150W)
- Kiểu động cơ: 2 giai đoạn, không đấu tắt
- Nguồn điện cấp: 230VAC, 50Hz
- Công suất danh định: 1.000W
- Bình chứa: thép mạ crom
- Thân và vỏ: nhựa đúc
- Lưu lượng khí: 0,053 m3/giây (53 lít/giây)
- Chân không: ~ 190 mbar
- Túi đựng bụi: 20 lít
- Diện tích lọc: 0,19
- Độ ồn: 62dB
- Phụ kiện đi kèm

 

Sản phẩm cùng loại

Hệ thống Bốc bay bằng xung Laser DPL 1000/DADA KOREA

Model: DPL 1000

Hãng sản xuất: DADA KOREA

Xuất xứ: Hàn Quốc

Đọc thêm

Hệ thống Bốc bay chùm điện tử_1/EBES_1/DADA KOREA

Model: EBES_1

Hãng sản xuất: DADA KOREA

Xuất xứ: Hàn Quốc

Đọc thêm

Hệ thống bốc bay nhiệt_1/TES_1/DADA KOREA

Model: TES_1

Hãng sản xuất: DADA KOREA

Xuất xứ: Hàn Quốc

Đọc thêm

Hệ thống phún xạ magnetron DS2000

Model: DS 2000

Hãng sản xuất: DADA KOREA

Xuất xứ: Hàn Quốc

Đọc thêm

Máy quay phủ WS-650Mz-23NPP / Laurell Technologies Corporation

Model: WS-650Mz-23NPP

Hãng sản xuất: LAURELL TECHNOLOGIES CORPORATION

Xuất xứ: Mỹ

Đọc thêm

Hệ thống cảm biến khí DGS 1500 / DADA KOREA

Model: DGS 1500

Hãng sản xuất: DADA KOREA

Xuất xứ: Hàn Quốc

Đọc thêm

Hệ thống lò ủ nhiệt nhanh DRTA 2000 / DADA KOREA

Model: DRTA 2000

Hãng sản xuất: DADA KOREA

Xuất xứ: Hàn Quốc

Đọc thêm
Zalo
favebook