Quay lại Bản in Yahoo
Cỡ chữ

Kính hiển vi điện tử quét JSM-6010 PLUS/ LV

Mã sản phẩm: JSM-6010 PLUS/LV

Mô tả sản phẩm:

- Kính hiển vi điện tử quét (SEM) model JSM-6010PLUS/LV được phát triển dành cho kỷ nguyên của công nghệ nano để nghiên cứu cấu trúc và chụp ảnh các mẫu vật gốc silicat, kim loại và polyme, v.v... ở các dạng rắn và bột.

- Kính hiển vi điện tử quét (SEM) model JSM-6010PLUS/LV được phát triển dành cho kỷ nguyên của công nghệ nano để nghiên cứu cấu trúc và chụp ảnh các mẫu vật gốc silicat, kim loại và polyme, v.v... ở các dạng rắn và bột.
 - Buồng mẫu đa năng, hệ thống quang học điện tử cải tiến có thể đáp ứng nhiều lĩnh vực nghiên cứu khác nhau.
 - Chế độ hiển thị 2 ảnh thực (640x480 pixel) cùng với chế độ thực đôi truyền thống, tách ảnh thực, cửa sổ hiển thị linh hoạt…. phù hợp với nhiều ứng dụng khác nhau.
 - Hình ảnh thu được ở độ phân giải 4 nm có chất lượng cao.
 - Độ phóng đại thấp nhất: 5X thu được nhờ hệ thống quét đã được cải tiến.
 - Việc vận hành máy rất dễ dàng bằng cách điều chỉnh điện áp gia tốc và tối ưu hoá dòng dò.
 - Súng điện tử hoạt động hoàn toàn tự động.
 - Kính JSM-6010PLUS/LV  có 2 chế độ: Chân không thấp và chân không cao;  
   + Ở chế độ chân không cao: có thể chụp ảnh tốt các mẫu vật dẫn điện. Đối với các mẫu vật không dẫn điện, để chụp ảnh mẫu vật cần phải được phủ lớp dẫn mỏng hoặc chụp với thế gia tốc thấp 
   +  Ở chế độ chân không thấp (~10-100 Pa): có thể chụp các mẫu vật không dẫn điện mà không cần lớp phủ. Chế độ này cũng cho phép chụp các mẫu vật chứa nước hoặc dầu.
 - Việc chuyển đổi giữa hai chế độ SEM chân không thấp và chân không cao được thực hiện dễ dàng chỉ trong một phút thông qua menu chương trình.
 - Màn hình sử dụng công nghệ multi-touch - màn hình cảm ứng.

1. Độ phóng đại
 - Độ phóng đại: 8 lần đến 300.000 lần (146  bước nhảy)
(Độ phóng đại 5 lần đến 8 lần tại điện thế thứ cấp 10 kV hoặc thấp hơn, khoảng cách làm việc ≤ 46 mm)
2. Độ phân giải
Chế độ chân không cao (H-Vac)
Độ phân giải (SEI - điện tử thứ cấp): 
 - 4.0 nm (điện thế thứ cấp 20 kV, khoảng cách làm việc 8 nm, SEI)
 - 8.0 nm (điện thế thứ cấp 3 kV, khoảng cách làm việc 6 nm, SEI)
 - 15.0 nm (điện thế thứ cấp 1 kV, khoảng cách làm việc 6 nm, SEI)
Chế độ chân không thấp (V-Vac)
Độ phân giải (BEI - điện tử tán xạ ngược):
 - 5.0 nm  (điện thế thứ cấp 20 kV, khoảng cách làm việc 5 nm)
3. Súng bắn điện tử
 + Điện thế gia tốc:
 + 0.5 - 3 kV: bước tăng 100V
 + 3- 20 kV: bước tăng 1kV
 + Dây tóc: filament tungsten căn chỉnh tại nhà máy
 + Điện áp Bias: Tự động điều chỉnh liền mạch
 + Căn chỉnh: lệch điện từ 2 giai đoạn
 + Điều khiển súng điện từ: cài đặt dòng nhiệt dây tóc và cuộn quét tự động hoặc bằng tay. Điều chỉnh tự động súng điện từ chỉ ở chế độ chân không cao.
 + Chế độ làm trắng chùm tia ( Beam blanking)
4. Dòng dò: 1 pA - 0,3 microA
5. Áp suất chân không trong buồng chân không:
 - Áp suất có thể điều chỉnh: 10 đến 100 Pa (có thể cài đặt 1 Pa)
6. Tín hiệu hình ảnh
Chế độ chân không cao (H-Vac)
 - Hình ảnh điện tử thứ cấp (SEI) (đầu thu Everhart-Thornley)
 - Hình ảnh điện tử tán xạ ngược (BEI)  (đầu thu Everhart-Thornley)
 - Hình ảnh điện tử tán xạ ngược (BEI): ảnh thành phần, hình học và ảnh bóng (đầu thu bán dẫn)
Chế độ chân không thấp (L-Vac)
 - Hình ảnh điện tử tán xạ ngược (BEI): ảnh thành phần, hình học và ảnh bóng (đầu thu bán dẫn)

Kính hiển vi điện tử quét SEM do có ưu điểm phân tích không phá hủy mẫu nên được sử dụng trong các lĩnh vực sau:
- Công nghệ sinh học
- Khoa học vật liệu
- Công nghệ bán dẫn
- Công nghệ nano...

Phụ trách KD
024.3783.5114
Phụ trách hóa chất
028.6658.9490
Hỗ trợ kỹ thuật
024.3562.3670
Hotline
0905.653.866